01制作人 : 欧丁玉↗02 作词 : 陈少琪↗03 作曲 : 李偲菘↗04 编曲 : David Garfield↗05近日像每样话题总不适合你↗06近日夜深相聚↗07飘起一抹冷漠空气↗08在这天↗09是你事无大小多么生气↗10谁人亦可知你将别离↗11落寞地躺在睡床试试抱紧你↗12但是目光躲避↗13令我可感到你在喘气↗14没说出↗15亦领会谁在撩动你↗16抛开苦痛去解脱自己↗17让你那些冷却热情另有生机↗18离开我以后我会习惯自卑↗19明天再偶遇我也不敢偷望你↗20离开我以后季节冷暖天气↗21我也置诸不理↗22愿名字也再不记起↗23离开我以后我会长留这地↗24晨早到午夜扑进漆黑想念你↗25离开我以后醉了会看到你↗26梦中方可永久地↗27接近你↗28oh-----↗29伴着但我在预期你会说舍弃↗30问事实怎躲避↗31在倒数将要每日想你↗32若这刻↗33若最后无力留下你↗34将消失勇气释放自己↗35就算某天我吻别人亦当亲你↗36离开我以后我会习惯自卑↗37明天再偶遇我也不敢偷望你↗38离开我以后季节冷暖天气↗39我也置诸不理↗40愿名字也再不记起↗41离开我以后我会长留这地↗42晨早到午夜扑进漆黑想念你↗43离开我以后醉了会看到你↗44梦中方可永久地↗45离开我以后我会习惯自卑(接近你)↗46明天再偶遇我也不敢偷望你↗47离开我以后季节冷暖天气↗48我也置诸不理↗49愿名字也再不记起↗50离开我以后我会长留这地↗51晨早到午夜扑进漆黑想念你↗52离开我以后醉了会看到你↗53梦中方可永久地↗54接近你↗55oh-----↗56 和声 : Dorcas Kwok/金培达/郑中基↗57 键盘 : David Garfield↗58 OP : Music & Melody Publishing↗59 SP : PolyGram Music, Hong Kong, Ltd.↗60 贝斯 : Jimmy Johnson↗61 录音室 : Record Plant (Los Angeles)/ Conway Studios/Ocean Way Recording/Capitol Studios/Platinum Studios (Hong Kong)/Avon Studios (Hong Kong)↗62 混音室 : Record Plant (Los Angeles)/Conway Studios/Larrabee Sound Studios/Dragon Studios (Hong Kong)↗63 鼓 : Carlos Vega↗64 钢琴 : Randy Waldman↗65 电吉他 : Michael Landau↗66 录音师 : Alan Hirshberg/Ronnie Rivera↗67 混音师 : Mick Guzauski↗68 录音工程师 : Alan Hirshberg/Robert Read↗ + 写一段解读称呼(可选)你的歌词解读无需登录,内容审核后公开。请勿留下联系方式。提交解读 一起聊聊0 条主评论 第一段感受,也许就来自你。 可以直接提交评论与回复。启用 JavaScript 后,可收起回复或每次查看更多 10 条;以下链接可翻阅主评论。 称呼(可选)分享你的理解与感受无需登录,内容审核后公开。请勿留下联系方式。提交评论 ↗