LYRICS / WORDS THAT RESONATE

离开以后歌词

张学友 · 过敏世界

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01制作人 : 欧丁玉02 作词 : 陈少琪03 作曲 : 李偲菘04 编曲 : David Garfield05近日像每样话题总不适合你06近日夜深相聚07飘起一抹冷漠空气08在这天09是你事无大小多么生气10谁人亦可知你将别离11落寞地躺在睡床试试抱紧你12但是目光躲避13令我可感到你在喘气14没说出15亦领会谁在撩动你16抛开苦痛去解脱自己17让你那些冷却热情另有生机18离开我以后我会习惯自卑19明天再偶遇我也不敢偷望你20离开我以后季节冷暖天气21我也置诸不理22愿名字也再不记起23离开我以后我会长留这地24晨早到午夜扑进漆黑想念你25离开我以后醉了会看到你26梦中方可永久地27接近你28oh-----29伴着但我在预期你会说舍弃30问事实怎躲避31在倒数将要每日想你32若这刻33若最后无力留下你34将消失勇气释放自己35就算某天我吻别人亦当亲你36离开我以后我会习惯自卑37明天再偶遇我也不敢偷望你38离开我以后季节冷暖天气39我也置诸不理40愿名字也再不记起41离开我以后我会长留这地42晨早到午夜扑进漆黑想念你43离开我以后醉了会看到你44梦中方可永久地45离开我以后我会习惯自卑(接近你)46明天再偶遇我也不敢偷望你47离开我以后季节冷暖天气48我也置诸不理49愿名字也再不记起50离开我以后我会长留这地51晨早到午夜扑进漆黑想念你52离开我以后醉了会看到你53梦中方可永久地54接近你55oh-----56 和声 :  Dorcas Kwok/金培达/郑中基57 键盘 : David Garfield58 OP : Music & Melody Publishing59 SP : PolyGram Music, Hong Kong, Ltd.60 贝斯 : Jimmy Johnson61 录音室 : Record Plant (Los Angeles)/ Conway Studios/Ocean Way Recording/Capitol Studios/Platinum Studios (Hong Kong)/Avon Studios (Hong Kong)62 混音室 : Record Plant (Los Angeles)/Conway Studios/Larrabee Sound Studios/Dragon Studios (Hong Kong)63 鼓 : Carlos Vega64 钢琴 : Randy Waldman65 电吉他 : Michael Landau66 录音师 : Alan Hirshberg/Ronnie Rivera67 混音师 : Mick Guzauski68 录音工程师 : Alan Hirshberg/Robert Read
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